# 2025年新品發布會#

日期：2025年10月10日

時間：8：30-18：30

近期我司新推出升級了 ESA70WN適用于半導體、LCD制造等行業的腔室快速抽真空需求

1. 排量性能

• 極限真空度可達0.001Pa（10?3mbar），滿足高精度工藝的真空環境要求。

2. 結構設計

• 干式無油設計，避免油污染風險，特別適合MO-CVD、光刻等對潔凈度要求高的場景。

• 多級螺桿壓縮技術，結合同步齒輪驅動，實現低振動（<4.5mm/s）和低噪音（<75dB）運行。

3. 材料與兼容性

• 泵腔采用耐腐蝕合金（如316L不銹鋼），可處理氫氣、有機溶劑等腐蝕性氣體。

• 可選配PTFE涂層版本，增強對酸性氣體的耐受性。

產品特點

• 高效排氣：高排量設計縮短腔室抽氣時間，提升半導體產線吞吐效率。

• 穩定性強：智能監測系統實時追蹤軸承溫度、振動等參數，預測性維護準確率達98%。

• 節能環保：IE5超高效電機（能效≥0.95）配合無油設計，降低能耗與廢液處理成本。

典型應用場景

1. 半導體制造

• 晶圓鍍膜腔室的快速抽真空，減少工藝等待時間。

• 光刻膠曝光后的殘余氣體排除，避免污染敏感元件。

2. 顯示面板生產

• LCD濺射設備的真空維持，確保薄膜均勻性。

• 有機發光二極管（OLED）封裝腔室的氣體置換。

3. 化工與科研

• 實驗室真空干燥系統的氣體回收，兼容有機溶劑。

• 光伏電池鍍膜工藝的惰性氣體環境控制